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2017科學(xué)家研發(fā)出黑硅太陽能電池de秘密 硅片回收

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開采時(shí)間:2017-11-30 20:07
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    黑硅技術(shù)的要點(diǎn)是:通過將表面加工成長度為0.8μm左右的劍山形狀,大幅減少了反射;背面電極型;在單元正面和背面形成防復(fù)合膜(鈍化膜),從而減少了電子與空穴的載流子復(fù)合。

           阿爾托大學(xué)從2012年前后開始開發(fā)這項(xiàng)技術(shù)。201210月達(dá)到了18.2%的轉(zhuǎn)換效率,20134月提高到了18.7%。此次的試制品將轉(zhuǎn)換效率又提高了3個(gè)百分點(diǎn)以上,達(dá)到22.1%。此次試制的太陽能電池單元比較大,面積為9cm2。此次能大幅提高轉(zhuǎn)換效率的原因是,在單元表面形成防復(fù)合膜時(shí),采用原子層沉積法形成了氧化鋁層,并優(yōu)化了該層的厚度等,從而大幅減少了載流子復(fù)合。此次采用的是厚度為20nm的氧化鋁層。

           這種太陽能電池采用了獨(dú)特的表面加工技術(shù),因此,在波長為500800nm的范圍內(nèi),電池表面的可見光反射率幾乎低于0.5%。基于黑硅技術(shù)的太陽能電池非常適合在芬蘭等高緯度地區(qū)使用。

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